談?wù)撈鸪兯膹?fù)雜工藝,涉及多門學(xué)科,包括物理、化學(xué)、光化學(xué)、機(jī)械、空氣動(dòng)力學(xué)等,依各種原水水質(zhì)和客戶要求的不同,超純水的制備工藝大體分為預(yù)處理、初級(jí)制備和拋光處理三個(gè)步驟。整個(gè)制造過程中采用的工藝技術(shù)復(fù)雜而精細(xì),不容偏差,制備難度涉及至少18個(gè)關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié)。

預(yù)處理:MMF多介質(zhì)過濾器 + ACF活性炭過濾器(常規(guī)處理方式)、MF微濾+UF超濾(新型處理方式)

初級(jí)制備:2B3T兩床三塔 + RO反滲透膜 + MB混床(常規(guī)處理方式)、兩級(jí)RO+EDI連續(xù)電解除鹽(新型處理方式)

拋光系統(tǒng):TOC UV紫外線降TOC + PMB拋光混床 + MDG 脫氣膜裝置 + UF終端超濾

高頻科技 超純工藝的實(shí)踐者和賦能者

近年來,伴隨芯片市場的崛起,也為超純工藝技術(shù)企業(yè)帶來廣闊的機(jī)遇與挑戰(zhàn),高頻科技不斷探索超純水的絕對(duì)純度,從多介質(zhì)過濾、活性炭吸附、離子交換、反滲透膜、紫外線殺菌、紫外線TOC去除,再到電滲析、超濾、鈉濾、真空脫氣塔、膜脫氣等,涵蓋不止于18項(xiàng)專業(yè)處理工藝環(huán)節(jié)不斷提升超純水系統(tǒng)的應(yīng)用效率,并在反滲透、離子交換、膜脫氣、紫外線殺菌和TOC降解等多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)產(chǎn)品材料中也有著行業(yè)性的應(yīng)用創(chuàng)新成果。高頻科技產(chǎn)水水質(zhì)接近絕對(duì)純度,電導(dǎo)率無限接近18.2兆歐的理論極限值,其純度可達(dá)99%,不斷滿足半導(dǎo)體行業(yè)日趨提升的用水需求,并以此塑造了強(qiáng)大的行業(yè)技術(shù)壁壘,在國內(nèi)超純工藝領(lǐng)域中厚積薄發(fā),生根發(fā)芽。